企業理念
昨今の急激な世界情勢の変化に加え工業技術の目覚しい発展に対し、当社が専門としている半導体、
エレクトロニクス、フォトリソ、エネルギー業界では先進性と合理性を、今まで以上に求められております。
創立以来、時代に対応した専門技術と蓄積されたノウハウを限りなく活かして“より良い製品を生み出す。
”ことを信念にもって邁進してきています。
株式会社ソフ.エンジニアリングは
以下の三つの基本方針を掲げ、弛まなく歩み続けていきます。
1.先端技術の活用によるプロセスラインの装置化
2.”シンプル イズ ベスト”の物作り
3.誠意をモットーに、企業ニーズに応える
| 名称 | 株式会社ソフ.エンジニアリング |
|---|---|
| 設立 | 昭和59年7月24日 |
| 資本金 | 払込資本金 2000万円 |
| 役員 | 代表取締役 田邊 信男 |
| 所在地 | 〒353-0002 埼玉県志木市中宗岡1丁目18番40号 |
| TEL | 048-475-0511 |
| FAX | 048-475-0413 |
| 1984年07月 | 埼玉県騎西町にて半導体装置製造業として(株)ソフエンジニアリングを設立。資本金500万円。 |
|---|---|
| 1987年09月 | 事業所を埼玉県志木市中宗岡1-18-40に移転 |
| 1988年07月 | 「3インチCD基板保護膜デッピング装置」開発販売開始 |
| 1989年01月 | 「360*460mm液晶基板スピンコーター」開発販売開始 |
| 1989年09月 | フォトマスク洗浄装置のシリーズ標準化を行い、販売開始 |
| 1990年01月 | 「ポリイミドレジストプロセスライ」開発販売開始 |
| 1991年04月 | 「水系洗浄剤によるケース洗浄機」開発販売開始 |
| 1992年04月 | 「レチクルマスク自動洗浄装置」開発販売開始 |
| 1993年10月 | 資本金2000万円に増資 |
| 1995年09月 | 「海外向けフォトマスク洗浄装置」販売開始 |
| 1997年05月 | 「フロン代替え薬品による洗浄剥離装置」開発販売開始 |
| 1998年05月 | 「BGA/CSPテープ基盤テンションコントロール式プロセス装置」開発販売 |
| 2000年02月 | 「めっき用フープ材自動アキュムローデング機構」開発販売開始 |
| 2002年07月 | 「G8マスク基板自動プロセス/洗浄装置」開発販売開始 |
| 2004年05月 | 「有機剥離ウエットステーション」開発販売開始 |
| 2005年06月 | 「G10マスク基板自動プロセス/洗浄装置」開発販売開始 |
| 2007年04月 | 「BGA/CSPテープ基板出荷前ファイナル洗浄装置」開発販売開 |
| 2008年11月 | 「大型エマルジョン現像基板処理装置」販売開始 |
| 2009年03月 | 「枚葉スピンリフトオフ自動処理装置」開発販売 |
| 2010年07月 | 「スピンRCA自動処理装置」開発販売 |
| 2011年11月 | 「枚葉DipSpinリフトオフ自動処理装置」開発販売開始 |
| 2012年06月 | 「スピン&コンベアー式自動処理装置」開発販売開始 |
| 2013年10月 | 「大型エマルジョン現像基板処理装置」販売開始 |
| 2014年05月 | 「多機能UDSスピン自動処理装置」販売開始 |
東武東上線「志木駅」※池袋から急行で約20分乗車下さい。
【タクシードライバー殿へ】