フォトリソ

代表例です。プロセス含め詳しくは御相談下さい。

《NEW》Spin/Dip型枚葉リフトオフ有機剥離処理装置

Spin枚葉装置に超音波搭載併用処理可能な全く新しい装置形態です。《特許取得成立済み》

超高振幅特殊超音波によるリフトオフパターンのバリフリー処理が可能となります。

環境やランニングコスト面に有効なIPAフリープロセスも実現可能です。

超音波以外にも高圧JET等の多種多様なツールを一つの装置に同時搭載でき、基板状態に応じて最適なツールを選択使用処理が可能なため、同一装置で様々な素子パターンへの処理対応が可能です。(装置プロセスマージンが非常に広い。)

MEMS等基板多用される中空/スケルトン/極薄板と言った割れやすい脆弱基板に対するプロセス処理や搬送技術を持ち合わせております。

有機/リフトオフプロセス以外の例えば研磨後洗浄にも有効な方式です。

高機能フィルムWET処理装置

最先端のWEB・フィルムのデバイス製造に対応した《ロール・ツー・ロール》対応のウエット処理装置です。

高機能フィルムの洗浄・エッチング・剥離プロセス実現に寄与いたします。

超大型基板リソプロセス装置

超大型基板(1.3m×1.5m×15mmt)用フォトリソ一貫処理をSPINプロセスで装置化いたしました。

小型基板に対しても同様な対応で装置化が可能です。

他社に類のない、全世界で唯一(特許出願済み)の特殊SPIN/Dip処理技術を搭載した装置化も可能です。

大型基板用全自動SPINコーター

大型マスク基盤用としては24インチ以上サイズには自動搬送機を標準搭載いたします。

チャンバー内気流制御、メンテ性にも気配りをしております。

レジスト・コート剤の粘度に応じた、最適加速度選択が可能です。

スプレー/パドル現像装置

基板のポジレジスト現像をスピン処理にてスプレー/パドルの選択により現像処理を行います。

その後 リンス・乾燥と一連の現像プロセス処理を行うマニュアル式スピン現像装置です。

スキャン時に周速制御による均一性向上が可能です。

スプレー現像装置

基板の現像処理をスプレーノズルスキャン方式にて行います。

現像、リンス、乾燥と一連のパターニング処理が可能です。スキャン時に周速制御機能で均一性Upが可能です。

チャンバー蓋開閉は勿論、周囲にも安全バリアーを設けております。

スクラブやMSや特殊ノズルといったツールを付加することで、フォトリソ以外のプロセスでもご使用できます。

レジストコート機

ガラス基板にレジストコート材をスピンナーにより塗布処理する装置です。

チャンバー内気流制御、メンテ性にも気配りをしております。

レジストコート剤の粘度に応じた、最適加速度選択が可能です。

パドル現像・エッチング装置

現像、エッチング、リンス、乾燥と一連のパターニング処理をスピンにて行う装置です。

基板品種により現像、エッチングの処理時スプレー又はパドルのレシピ選択が可能です。

スキャン時には周速制御による均一性向上も可能です。

マルチスプレーエッチング装置

多方向からの一括スプレーエッチ処理で、短時間処理と均一性Upを達成できるスプレーエッチング装置です。

大型基板用 マニュアルスピンコータ

大型基板に対応したレジストスピンコートユニットです。

チャンバー内の気流制御はもちろん、メンテ性に優れた処理ユニットです。

さらに大型の基板に対応した自動搬送機付のモデルも御提案できます。

《NEW》極微細パターン対応 現像・エッチング装置

従来型のスプレー現像・エッチング処理方式ではパターン倒壊を招く。
極微細かつアスペクト比の高いレジストパターンの現像・エッチングに対応した装置です。
弊社オリジナルの他社にマネのできないワールドワイド唯一のDip/Spin方式(特許出願済み)を応用した処理装置です。
Dip/Spin方式は従来SPIN処理タイプ機では装置化ができなかったバッチ理プロセスをSPINで実現可能です。
例えば、(19KHz.100KHz)でのBLT型超音波処理がSPIN装置でも処理可能です。
液種を変えることで、バッチ処理または水平枚葉処理でしか対応できなかった各種プロセスにもSPIN枚葉で装置化できます。
Dip/Spin方式は今までの常識を破った発展応用性の広い方式です。

高機能フィルムWET処理装置 (ロール・ツー・ロール式WET処理装置)

「ノンストレス搬送」「コイラー/アンコイラー段階別トルク制御」で製品ダメージや巻き締り・巻き緩みを解消した<ロール・ツー・ロール>方式の全自動搬送が可能です。多条レーンのバリエーションもあります。

「スクラブ」「超音波」「MS」「バブルJET」「噴流シャワー」「スプレー」等の各種ツールを駆使し、各種高機能フィルムへの現像、エッチング、洗浄等の多目的WET処理に対応いたします。